主营:真空技术开发;真空设备及配件、机械设备及配件、电子产品及配件技术开发、技术咨询服务、技术转让、生产、
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价格 | ¥ 1200000 |
起订量 | ≥1台 |
好货推荐
产地 | 沈阳 | 型号 | ZLCK1200 |
应用技术 | 阵列式磁控溅射镀膜 | 膜层 | 光滑、致密、有光泽 |
膜厚 | 可控性和重复性好 | 供货总量 | 9999 |
PRODUCT DETAILS
设备特点:
设备特点:系统为多室卧式结构的真空磁控溅射镀膜装置,主要用来在基片上设备能够沉积金属膜、氧化物、氮化物膜层或者氮氧化物薄膜。系统设计成6个腔体,腔体最左侧中采用矩形热辐射加热器处理加热样品表面,腔室中可放置4个矩形磁控靶,采用磁控靶在上,基片在下,向下溅射成膜方式。